掃描型膜厚測試儀全自動，超快速，高精準等膜厚表征繪制和膜厚涂覆的光學特性，利用光學反射方法來測量和自動分析薄膜涂層的表征。
掃描型膜厚測試儀
是簡潔易操作的臺式膜厚儀，適用于在大尺寸基板上的薄膜和涂層上，利用光學反射方法來測量和自動分析薄膜涂層的表征。
掃描型膜厚測試儀
膜厚儀是可通過測定放置在真空托盤上的任何大小的半導體晶圓片，快速計算出其厚度、折射率、均勻性、顏色等參數(shù)。
膜厚儀的光學掃描系統(tǒng)，采用一套*又可配套的光譜儀，集成白熾和LED混合的光源，以及其他光學部件。在本系統(tǒng)設計中沒有任何彎曲或移動探針。因此，在精確度、重復性和長期性方面，光纖具有優(yōu)異的性能。確保系統(tǒng)結果輸出的穩(wěn)定性。此外光源的特殊設計提供極長壽命，可達10000小時以上。
系統(tǒng)參數(shù) | FR-Scanner-E VIS/NIR | FR-Scanner-F VIS/NIR | FR-Scanner-F VIS |
樣片尺寸 | 晶圓片: 2in-3in-4in-6in-8in. 不規(guī)則樣片等 | ||
R向分辨精度 | 10μm | 5μm | 5μm |
角度分辨精度 | 0.2° | 0.1° | 0.1° |
光斑大小 | 500μm (直徑): 反射的區(qū)域 | ||
zui小膜厚 | 100nm | ||
光譜范圍 | 350nm - 1100nm | 350nm - 1100nm | 550nm – 900nm |
光譜儀參數(shù) | 3648 pixels | ||
光源平均使用壽命 | 10000小時 | ||
膜厚范圍 | 20nm-90μm | 20nm-90μm | 100nm-190μm |
測量分辨率 | <0.1nm | 0.06nm | 0.06nm |
測量穩(wěn)定范圍 | <0.1nm | 0.06nm | 0.06nm |
測量精度 | 1nm | 1nm | 1nm |
掃描速率 | 200meas/min 5points: 6sec 25points: 15sec | 625meas/min 5points: 4sec 25points: 9 sec | 625meas/min 5points: 4sec 25points: 9 sec |
通訊接口 | USB 2.0 / USB 3.0. Any PC running Windows 7/8/10 64bit. | ||
尺寸 | 485W x 457L x 500H mm | ||
功率要求 | 110V/230V, 50-60Hz, 300Watts | ||
重量 | 23kg | 40kg | 40kg |
*附件選項
電腦：PC with 19inch screen
對焦模塊：光學模塊附帶250um直徑光斑大小的反射探針
泵浦：樣品放置用的高級無油真空泵浦
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